原來這些直讀光譜儀（yí）的誤差是可以避免，你（nǐ）知（zhī）道嗎？

光電直讀光譜儀雖然本身測量準（zhǔn）確度很高，但（dàn）測定試樣中元素含量時， 所得結果與（yǔ）真實含量通常不一致，存在一定誤差，並且受（shòu）諸多因素的影響，有的材料本（běn）身含量就很低。下麵就誤差的種（zhǒng）類、來源及如何避免（miǎn）誤差進行分析。

根據（jù）誤差（chà）的性質及產生原因， 誤差可分為下麵幾（jǐ）種：

1.係統誤差的來源

(1)標（biāo）樣和試樣中的含量和化學組成不完全相同時，可能引起基體線和分析線的（de）強度改變，從而引入誤差。

(2)標樣和試樣的物理性能不完全相同時，激發的特征譜線會有差別從而產生光電直讀光譜儀係統誤差。

(3)澆注狀態的鋼（gāng）樣與經過退火（huǒ）、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態的鋼樣金屬組織結構不相同時，測出的數據會有所差別。

(4)未知元素譜線的重疊幹擾。如熔煉過程中加入（rù）脫氧劑、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引（yǐn）入係統誤差。

(5)要消（xiāo）除係統誤差，必（bì）須嚴格按照標準樣品製備規定要求。為了檢（jiǎn）查（chá）係統誤（wù）差，就需要采用化學分析方法分析多次校對結果。

2.偶然誤差的來源

與樣品成分不均勻有關的誤差。因（yīn）為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結構的不均勻性，導致（zhì）不同部位的分析結果不同而產生偶然誤差。主要原因如下：

(1)熔煉過程中帶入夾雜物，產生的偏析等造成樣品元素分布不均。

(2)試樣的缺（quē）陷、氣孔、裂紋、砂眼等（děng）。

(3)磨樣紋（wén）路交叉、試樣研磨過熱、試（shì）樣磨麵放置時間太長和壓上指紋等（děng）因素。

(4)要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄（zhù）造缺陷，也可以重（chóng）複多次分析來降低分析誤差。

3.其他因（yīn）素誤差

(1)氬（yà）氣不純。當氬氣中含有氧和水蒸氣時，會使激（jī）發斑點變壞。如果氬（yà）氣管道與電極架有汙染物排不出去，分（fèn）析結果會變差。

(2)室內溫度的升高會增加光電（diàn）倍增管的暗電流，降低信（xìn）噪比。濕度大容易（yì）導致（zhì）高壓元件發生漏電、放電現象，使分（fèn）析結果不穩定。

如何避免誤差（chà）：

(1)試樣表麵要平整，當（dāng）試樣放在電極架上時，不能有漏氣現象。如（rú）有漏氣，激發時聲音不正常。

(2)樣品與控製標（biāo）樣的磨紋粗細要一致，不能（néng）有交叉紋，磨（mó）樣用力不要過大，而且用力要均勻，用力過大，容易造成試樣表麵氧（yǎng）化。

(3)對高鎳鉻鋼磨樣時，要使用新砂輪（lún）片磨樣，磨紋操作要求更嚴格。

(4)試樣不能有偏析、裂紋、氣孔等缺陷，試樣要有一定的代表性。

(5)電極的頂尖應具有一定（dìng）角度，使光軸不偏離（lí）中心，放（fàng）電間隙應保（bǎo）持不變，否則聚焦在分（fèn）光（guāng）儀的譜線強（qiáng）度會改變。多次重複放電以（yǐ）後（hòu），電極會長尖，改變了放電間（jiān）隙。激發（fā）產生（shēng）的金屬蒸氣（qì）也會汙染電極。所以必須激發一次後（hòu）就用刷（shuā）子清理電極。

(6)透鏡內表麵常（cháng）常受到來自真空泵油蒸氣的汙（wū）染，外（wài）表麵（miàn）受到（dào）分析（xī）時產生（shēng）金屬蒸氣（qì）的附著，使透過率明顯降低，對波長（zhǎng）小於200nm的碳（tàn）、硫、磷譜線（xiàn）的透過率影（yǐng）響更顯著，所以聚光（guāng）鏡要進行定期清理。

(7)真空度不夠高會降低分析靈敏度， 特（tè）別是波長小於200nm的元素更明顯， 為此要求真空度達0.05mmHg。

(8)出射狹縫的位置變化受溫度的影響大，因此保持分光室內恒溫30℃很重要，還要求室內溫度保持一致，使出射狹縫不偏離正（zhèng）常。